美國 H2MA 保濕抗敏修護日霜 SPF 30 PA++

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專利獨有植物提煉配方,全方位保濕修護、防曬、抗敏日霜

產品特點

✔️專利鎖水因子h2ma 水膜屏膜
h2ma 水份屏膜,有效深度保濕,長效滋潤並控制水油平衡

✔️敏感肌專用
舒緩敏感不適,抗敏消炎,對抗暗瘡,細胞全面修復

✔️調整膚色作用
回復精神好氣色,增強光澤與抗衰老

✔️防曬功能
spf 30++,抵擋uva、uvb,防止藍光及紫外線

✔️毛孔零負擔
無油配方,不油不粘,不阻塞毛孔

✔️妝容貼服無暇
可當作妝前霜使用,不浮粉、控油、零毛孔、持久貼服

✔️保濕同時修護
肌底修復,增強骨膠原生長,提升彈性,及對抗皺紋

✔️植物提煉配方
專利獨有植物提煉配方,零香料零酒精

容量|30g
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